- 会長
- 後藤康仁（京都大学・准教授）
- 副会長
- 木元 裕紀（デンカ株式会社）
- 庶務幹事
- 村田 英一（名城大学）
- 村上 勝久（産業技術総合研究所）
- 運営委員
- 11名
- 監事
- 三村 秀典（静岡大学）
- 高井 幹夫（大阪大学名誉教授）
- 学術界会員
- 24 名（2021/9/7現在）
- 産業界会員
- 6社（2021/9/7現在）
- 会員紹介
- 会員の専門分野などを紹介します
| 会員氏名 | 所属機関 | 専門分野のキーワード |
|---|---|---|
| 後藤 康仁 （会長） |
京都大学 大学院工学研究科 | 過酷環境真空電子デバイス、フィールドエミッタ、仕事関数、 電界電子・イオン放出現象の解析(SKチャート、FIM、FEM、電界蒸発、電界電離、アトムプローブ)、 イオンビーム分析(RBS、共鳴弾性散乱)、 PVD法における成膜機構解析(スパッタ、IBAD) |
| 木元 裕紀 （副会長） |
デンカ株式会社 | 電子源、仕事関数、真空装置 |
| 村田 英一 （庶務幹事） |
名城大学 理工学部 | 電磁界数値シミュレーション（境界電荷法、境界磁荷法、境界要素法、電子軌道計算、収差解析）、 エネルギー分析器、LEEM, PEEM, FEEM，高輝度電子銃 |
| 村上 勝久 （庶務幹事） |
産業技術総合研究所 デバイス技術研究部門 カスタムデバイスグループ | グラフェン，平面型電子源 |
| 若家 冨士男 （庶務幹事） |
大阪大学 大学院基礎工学研究科 附属極限科学センター | 微細加工プロセス，低次元電気伝導，ビーム誘起プロセス，カーボンナノチューブ，グラフェン，焦電結晶，X線源 |
| 田中 潤一 （運営委員） |
株式会社日立ハイテク ナノテクノロジーソリューション兼コアテクノロジー＆ソリューション事業統括本部 | 半導体加工プロセス、先進プロセス制御（APC）、電子顕微鏡、測長、電子線検査装置、仮想計測、 プラズマ、エッチング、表面物理 |
| 平野 友彦 （運営委員） |
浜松ホトニクス株式会社 電子管事業部 |
電子源、X線源、誘電体レーザ加速器、機器分析化学（クロマトグラフィー）、高分子化学 |
| 松永 宗一郎 （運営委員） |
株式会社日立製作所 研究開発グループ | 電子顕微鏡、電子銃、電子源、表面科学 |
| 佐々木 正洋 （運営委員） |
筑波大学 数理物質系 教授 |
表面・界面科学（構造、電子状態、微細構造、電子放出）、超音速原子線・分子線散乱、走査プローブ顕微鏡、FEM、FIM |
| 嶋脇 秀隆 （運営委員） |
八戸工業大学 工学部 | 半導体微小電子源(Si-FEA、MOS冷陰極)、超高周波電子ビームデバイス(マイクロ波・ミリ波源、THz波源)、電子エネルギー分析、ナノ結晶シリコン |
| 根尾 陽一郎 （運営委員） |
静岡大学工学部 電子物質科学 | 電界放射電子源、Field Emission Lamp、 スミスパーセル超放射、表面プラズモン |
| 高井 幹夫 （監事） |
大阪大学 名誉教授 | 微小電子源、カーボンナノチューブ電子源、ビームプロセス・分析技術、 シングルイベントアップセット |
| 三村 秀典 （監事） |
静岡大学 電子工学研究所 | フィールドエミッタ、化合物半導体エミッタ、高周波管、TWT、ディスプレイ |
| 川久保 貴史 | 香川高等専門学校 | 電界放出、ショットキー電子源、仕事関数 |
| 桑島 淳宏 | キヤノンアネルバ株式会社 コンポーネント開発部 | エックス線源、真空計、真空ポンプ、真空部品、真空工学、極低温冷凍機 |
| 下位 法弘 | 東北工業大学 工学部 東北大学大学院 環境科学研究科 |
電子源、電界放出、電子励起型遠紫外線輻射、炭素材料、真空強電デバイス、 非平衡励起反応場、解離性電子付着、リチウムイオン二次電池 |
| 鷹尾 祥典 | 横浜国立大学 大学院 工学研究院 システムの創生部門 | 宇宙推進、超小型衛星、イオンビーム、中和器（電子源）、 エレクトロスプレー、プラズマ、粒子シミュレーション |
| 永井 滋一 | 三重大学 大学院工学研究科 | 電界放出顕微鏡、電界イオン顕微鏡、スピン偏極電子源、 電界電離型ガスイオン源、エネルギー分析、アトムプローブ、 X線源 |
| 長尾 昌善 | 産業技術総合研究所 デバイス技術研究部門 カスタムデバイスグループ | 微細加工プロセス、多段ゲートFEA、スピント型エミッタ、シリコンエミッタ、ボルケーノ構造エミッタ、ダブルゲートエミッタ |
| 三谷 友彦 | 京都大学 生存圏研究所 | マイクロ波電子管、マグネトロン、マイクロ波加熱、 ワイヤレス給電 |
| 村田 博雅 | 産業技術総合研究所 デバイス技術研究部門 カスタムデバイスグループ | シリコンエミッタ、多層グラフェン、薄膜結晶成長、リチウムイオン二次電池 |
| 森 貴広 | 株式会社アールデック | 反射高速電子回折（RHEED）および画像解析、鋼材中水素量分析（HTDS）、真空蒸着、成膜レシピ制御、 MBE、バルブドクラッカーセル、RFプラズマ源、スパッタガン、真空脱ガス、超高真空マニピュレータ、 極低温試料冷却ステージ、ドライ排気ユニット、質量分析、表面分析、ガス分析、FT-IR |
| 山田 貴壽 | 産業技術総合研究所 ナノ材料研究部門 | ダイヤモンド、グラフェン、窒化ホウ素、表面修飾、CVD |
| 山納 康 | 埼玉大学／筑波大学 | 真空絶縁、真空放電、高電圧電気絶縁 |
| 吉武 道子 | 科学原理の俯瞰的利用、ナレッジデータベース | |
| 渡辺 一之 | 東京理科大学 | 表面・ナノ構造の電子・原子の動的過程の第一原理計算、 電界電子放出とFEM、電界蒸発とFIM、レーザー刺激電子放出、レーザー刺激イオン放出（La-APT） ナノプラズモン励起機構、熱電子放出、二次電子放出とSEM、表面の電子散乱素過程、 時間依存密度汎関数理論（TDDFT）の手法開発と応用 |